那就是光刻机，想要快速的做到7nm，乃至于5nm。
那都是绝对不可能的！
原因无他，目前的光刻机，说工作原理吧，一说，大家都懂。
那就是：印刷照片！
光刻机，就是这么一台高精度的底片曝光洗印机！
就是把设计好的芯片电路图，曝光到“照相纸”上。
只不过这个“底片”的专有名词叫“掩膜”。
而“相片纸”就是制造芯片的基底材料硅晶圆。
经过曝光完成以后，最终得到的照片，就是芯片！
至于光刻机的结构呢，最关键的有三个，简单来说。
就是光源发射器，调整和聚焦光路的光学镜头，以及放硅晶圆的曝光台。
三个难点的第一个，就是光源。
在光刻机里面，光，就是一把刀，一把刻刀！
而，如果说这光刻机的光波越短，那么，这把刀就会越锋利。
比如，如果你要制作一颗7nm程度的芯片。
那么，在这个光刻机里面的每个元器件之间，那就是只允许有区区几纳米的间距，相当于头发丝的万分之一粗细。
目前来讲，能做到7nm，乃至5nm的光刻机，全球就那么一两家。
由此的，也是足以看得出来。
此等的光刻机，制作上的难度与水准，究竟有多么的恐怖！
而根据林墨刚才说的，他想要打造出来一台，7nm程度的光刻机。
那么，这在孟轻舟的眼里，毫无疑问，就是难如登天啊！
因为，目前国产的光刻机，最高也就是22nm的程度，这是落后了风车国as/ml公司的光刻机，足足15年！
就算追赶，哪怕他们拼尽了全力，估计也就只能做到，在五六年内追赶上。