贝格以加重系魔法「双重加压」回应。是在平面产生两个斥力场，同时从两个方向施压的魔法。大多是从相对的两个方向往中间施压用来压扁对象。
卡诺普斯同时发动两次加重系魔法「加压」，抵销贝格的魔法。不是解除魔法本身，而是定义相反的事象改写，让彼此的魔法产生破绽。
「什么……」
贝格惊叫出声。让定义产生破绽导致对方魔法失效的技术，已经编入stars的训练课程，她当然也知道这种技术才对。但是为了刻意造成定义破绽，必须先解读对方的魔法再将自己的魔法使用在适切的座标，或者是正确预测对方使用的魔法。
如果是前者，难度即使比不上术式解散也差不多。
如果是后者，就意味著贝格的手牌已经被看透。
贝格露出的慌张，对于卡诺普斯来说是一个机会。
卡诺普斯朝贝格拉近间距。他不是以「分子切割」砍下，而是想在贴身距离施放电击剥夺贝格的身体自由。
但是卡诺普斯踩第四步就停下脚步。
无暇转身就朝自己的右斜后方架设「镜面护盾」。
他的反高能量光线兵器用护盾，反弹了雷谷鲁斯射来的雷射光弹。
雷谷鲁斯刚才发射的雷射光弹擦过自己的脸。
他背上冒出冷汗。
雷谷鲁斯迅速（要说不慌张是骗人的）抱著武装演算装置移动。
雷谷鲁斯至今没受到卡诺普斯的主动攻击。不知道是卡诺普斯没发现雷谷鲁斯的位置，还是他要优先对付贝格与艾克图鲁斯。
以狙击发动攻势的是雷谷鲁斯。
然而受到压力的也是雷谷鲁斯。
雷谷鲁斯拿手的「雷射狙击」基于性质，发射一次就会被敌方魔法师得知所在位置。攻击之后会被敌方记住位置的风险也适用于实弹的狙击，但是一般的魔法从视线被遮蔽的障碍物后方也能攻击，所以他的魔法相较之下堪称缺乏隐密性。
雷谷鲁斯非常清楚自己的拿手魔法背负这个缺点。他每发射一次就抱著步枪造型的武装演算装置跑离定点。
移动时只使用最底限的魔法。总之为了避免被敌方（在这个场合是卡诺普斯）锁定，雷谷鲁斯不会偷懒，一定会移动足够的距离变更狙击地点。
之所以没从卡诺普斯那里受到反击以外的攻击，肯定是这个战法奏效。
然而这种反击将雷谷鲁斯的心理逼入绝境。
卡诺普斯以「镜面护盾」反弹的光弹，从刚才就数度擦过雷谷鲁斯的身体，每次都让雷谷鲁斯吓破胆。
不用说，雷射光是以光速前进，反弹回来的能量弹当然也是光速。从发射到反射光抵达的时间延迟等同于零，想在雷射光发射之后才架设护盾反射也来不及。
防御能量弹的护盾大致分成两种。
第一种是阻绝固定比例的能量。一般的防御护盾属于这一类。
第二种是反射电磁波的护盾。「镜面护盾」属于这一类。
后者防御雷射弹的效果比较好。「镜面护盾」只是反射外部光线，无法遮蔽内侧发出的光。即使就这么展开护盾，也不会妨碍「雷射狙击」的攻击。
然而要是架设护盾，事象改写的余波会被察觉。这就像是大声朝敌人告知自己所在的位置。那么这就不是「狙击」，单纯只是「远距离攻击」。
从原理来看，在射击之前架设「镜面护盾」，就可以挡下反弹回来的能量弹。「雷射狙击」从魔法发动到发射之间有一段无法避免的延迟。刚发动「雷射狙击」就架设「镜面护盾」并没有实际的损害。
但是说来可惜，雷谷鲁斯的武装演算装置没准备这个启动式。他无法在没有启动式的状况瞬间架设「镜面护盾」。和寄生物合体之后，他操纵能量弹的魔法技能提升，但是架设护盾的技术没受到寄生物化的恩惠。
如果狙击对象是莉娜，不架设护盾对付反射光也不成问题。莉娜的「镜面护盾」为了防止流弹伤害到外人，无论雷射的入射角是几度，反射光都设定为射入自己前方两公尺的地面。这就某方面来说是高超的技术，但不会对敌人造成威胁，看这一点就无法否认莉娜身为军人过于心软。
另一方面，卡诺普斯的「镜面护盾」设定为几乎一八〇度反射光弹。严格来说不是一百八十度，所以雷谷鲁斯目前免于被直接命中，但是没人保证今后也一直这么幸运。反射角度不严谨是因为魔法定义存在著「误差」，并不是因为设定成一七八度或一七九度。以数字形容的话应该是「一八〇度正负三度」吧。当误差是零，光弹就会笔直射向雷谷鲁斯。
可能被自己发射的雷射贯穿。
这份恐惧一点一滴但确实削减雷谷鲁斯的精神力。